PVD真空電鍍原理及電鍍層脫落的原因。

PVD真空電鍍主要包括：真空蒸發(fā)電鍍、濺射電鍍和離子電鍍。在真空條件下，各種金屬和非金屬薄膜通過蒸餾或濺射堆積在塑料部件表面，一般用于比較產(chǎn)品的功能涂層，如內(nèi)部屏蔽層。塑料制品有兩種常見的電鍍工藝：水電鍍和真空離子電鍍。

PVD真空電鍍的一般做法是先噴一層底漆，然后再進行電鍍。由于材料為塑料部件，注塑時會殘留氣泡和有機氣體，放置時會吸入空氣中的水分。另外，由于塑料表面不平整，直接電鍍的工件表面不潤滑，光澤低，金屬感差，會出現(xiàn)氣泡、水泡等不良情況。未來噴一層底漆會形成潤滑平整的表面，消除塑料本身的氣泡和水泡，展現(xiàn)電鍍的作用。PVD真空電鍍應用廣泛，如ABS材料、ABS+PC材料、PC材料產(chǎn)品等。由于其工藝流程混亂、環(huán)境和設備要求高，單價比水電鍍貴。

PVD真空電鍍是專業(yè)人士的總稱，屬于一種電鍍技術。它環(huán)保高效，解決了表面處理中的許多問題。PVD真空電鍍處理劑是一種特殊的附著力處理劑，可以提高涂層與基材之間的附著力，處理涂層，無法通過測試。PVD真空電鍍是一種綠色環(huán)保技術，技術發(fā)展迅速。